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多晶硅冷氢化PID工艺流程图CAD图

发布时间:2018-05-27 08:33
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此图纸是多晶硅冷氢化PID工艺流程图CAD图,图纸可采用CAD2009版及以上版本打开。 冷氢化:tcs+硅粉+氢气反应成三氯氢硅,转化率在20%左右,但是硅粉的加入是间歇性的,所以导致生产也是间歇性的,冷氢化的温度控制在500℃左右,但是操作压力为2mpa,耗电量较热氢化低3kwh/kg。

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图纸ID: 454971
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图纸版本:AutoCAD2009
图纸格式:dwg
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发布时间:2018-05-27 08:33
图纸参数:可编辑含参数
图纸分类: 化工设备
软件分类:
simankelly

本人于2006年毕业于华南理工大学的电子机械工程系,到目前为止,本人从事绘图设计工作已有8年时间,能熟练使用CAD、SolidWorks等绘图设计软件。 曾经在家具厂、建筑设计公司从事过设计师工作。 现在是一家知名医疗器械公司的设计师。主要从事轮椅、助行器、拐杖、马桶椅等残障人士使用的医疗辅助器械设计。对于家具设计,建筑室内设计、钢结构设计、楼梯和栏杆图纸都有一定的设计经验。

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